EXPOSURE LAMP紫外线灯

扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。d. 高精度双面：主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。i线步进式光刻机NSR-SF110,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率3.5KW，型号：NLi-3500AS。EXPOSURE LAMP紫外线灯

于2005年开始，使用尼康Nikon i-line步进式光刻机，型号：NSR-SF140,分辨率≤280nm。这是一种具有高吞吐量和极低拥有成本的扫描场i线步进器。

客户可以将NSR-SF140用于大规模生产下一代存储器和微处理器的非关键层。NSR-SF140可提高生产率并提高镜头性能。光源和透镜热管理得到了改进，在典型的生产应用中（即剂量=200mJ/cm2，300mm晶片上的76次曝光）。

光刻设备中光源为紫外线I线，波长为365nm，功率为7.5KW,对应型号为NLi-7500AL2,是日本ORC生产。

光源制作工厂给出寿命时间1500Hr，照度保证时间1500Hr的承诺。

使用步进式光刻机型号：NSR-SF140,NSR-SF150,NSR-SF155； 365nm紫外线灯UV-M03Ai线步进式光刻机NSR2205i14,用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2.5KW，型号：NLi-2510AHL2。

FX-51S/61SFX-801M2003FX-53S/63S2004Yokohama Plant Yokosuka Branch (now Yokosuka Plant) is built.2005FX-71S/81S2007Tochigi Nikon Precision Co., Ltd. is established.FX-803M/903N2008Sendai Nikon Precision Corporation is established.FX-75S/85S, FPD scanner for 7th and 8th generation plate sizes2009Mito Nikon Precision Corporation is merged with Tochigi Nikon Precision Co., Ltd.Sendai Nikon Precision Corporation is merged with Miyagi Nikon Precision Co., Ltd.FX-101S, FPD scanner for 10th generation super-large plate size2010Sales of FPD lithography systems in Chinese market start.2011FX-66SFX-76S/86S2012Yokosuka Plant is completed.FX-67S, FPD scanner achieving resolution of 2 碌m2013Building 530 at Yokohama Plant is closed. Construction of Building 502 is completed.Nikon Precision Singapore Pte Ltd is merged with Nikon Singapore Pte. Ltd.FX-86SH2FX-86S22016FX-68S, FPD scanner achieving resolution of 1.5 碌m2018FX-103SH/103S, FPD scanner for Generation 10.5 plate size2021FX-6AS, FPD scanner achieving the highest resolution of 1.2 碌m

    紫外线固化uv胶，是利用UV紫外线光照射，固化感光材料的技术应用，被认为是一种环境友好的绿色技术，亦称3E技术，即节能（energy）、环保（environment）、经济（economy），主要应用于涂料、油墨、胶粘剂等领域。中文名紫外线固化uv胶简称简称UV技术主要应用主要应用于涂料、油墨应用于玻璃制品，PVC制品，聚亚酰胺制品等。紫外线固化技术（简称UV技术），被认为是一种环境友好的绿色技术，亦称3E技术，即节能（energy）、环保（environment）、经济（economy），主要应用于涂料、油墨、胶粘剂等领域。其中紫外线固化UV胶应用于玻璃制品与珠宝业、玻璃家俱、医疗器具、电子、电器、光电子、光学仪器、制造等领域，如印刷线路板、液晶显示面板，半导体集成电路，电子元器件等产品的制造。.我们的工业用紫外线灯可根据客户需求定制，包括不同的尺寸、功率、波长等参数。

i线步进式光刻机NSR-SF155适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，NA0.62，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Overlay重合精度≦25nm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。实现了25nm以下的重合精度。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。我们的紫外线灯可有效杀灭细菌、病毒等微生物，保障食品安全和人员健康。日本曝光制程用紫外线灯

采用较好的技术和材料，我们的紫外线灯具有长寿命、低能耗、高紫外线输出等优点。EXPOSURE LAMP紫外线灯

b.接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用。c.投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。投影式曝光分类：扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸；步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（Exposure Field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。EXPOSURE LAMP紫外线灯